上海思峻机械设备有限公司
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产品关键词概述：水性脱模剂高速胶体磨，涂料胶体磨，高剪切胶体磨，不锈钢胶体磨，德国进口胶体磨，分体式胶体磨
水性脱模剂是用在两个彼此易于粘着的物体表面的一个界面涂层，它可使物体表面易于脱离、光滑及洁净。
脱模剂的具体作用原理如下：
1、极性化学键与模具表面通过相互作用形成具有再生力的吸附型薄膜；
2、聚硅氧烷中的硅氧键可视为弱偶极子（Si+-O-),当脱模剂在模具表面铺展成单取向排列时，分子采取特有的伸展链构型；
3、自由表面被烷基以密集堆积方式覆盖，脱模能力随烷基密度而递增；但当烷基占有较大空间位阻时，伸展构型受到限制，脱模能力又会降低；
4、脱模剂分子量大小和粘度也与脱模能力相关，分子量小时，铺展性好，但耐热能力差。
上海思峻zui新研发的胶体磨特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将SGN/思峻胶体磨进行进一步的改良，在原来GMD2000系列胶体磨为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。在胶体磨的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两X模块，加入了一X分散盘。
GMD2000水性脱模剂高速胶体磨为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。
GMD2000胶体磨有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
（价格电议：葛经理 13761159496 QQ：3300904039 公司有样机可供客户实验！）
GMD2000系列胶体磨的结构：胶体磨是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
一X由具有精细度递升的三X锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每X都可以改变方向。
二X由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是X转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验X工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
水性脱模剂高速胶体磨的特点：
更稳定采用X化设计理念，将X的技术与创新的思维X融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.
新结构通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，X高线速度的吸料式叶轮提供X强切割力，纤维湿法研磨破碎可达400目.
更可靠采用整体式机械密封，zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.
新技术采用国际X的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及X细湿法粉碎的要求.
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GMD2000系列胶体磨设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%。
