【高纯水制取设备生产厂家】基本说明
光电X纯水设备，太阳能光伏X纯水设备，多晶硅X纯水设备
我们公司X生产反渗透＋EDIX纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有X势，在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多X势。在LED、LCD、光电光学企业的脱盐水和X纯水装置，得到了业界的广泛赞誉，欢迎广大客户前来参观考察。
一、光电行业用X纯水，纯水设备，X纯水设备水质标准：
我公司电子XX纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子X水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五X标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
二、光电行业用X纯水，纯水设备，X纯水设备对水质的要求：
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、X大规模集成电路需用大量的高纯水、X纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对X纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
三、应用场合：
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆X纯材料和X纯化学试剂、X纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
【高纯水制取设备生产厂家】产品特点
光学镜片清洗用X纯水设备系统
一、光学镜片清洗用X纯水设备系统简介
光学镜片的清洗主要是指镜片抛光后残余抛光液、黏结剂、保护性材料的清洗；镜片磨边后磨边油、玻璃粉的清洗；光学镜片镀膜前手指印、口水圈以及各种附着物的清洗。光学镜片在制作过程中表面会粘付一些溶剂、药水等需要进行清洗，为了保证镜面的洁净度防止烘干后产生水痕，需要电导率0.1μs/cm2的X纯水进行漂洗。
光学镜片用X纯水设备系统的清洗工艺包括四个流程：洗涤、漂洗、脱水、干燥。
因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗，所以有不同的工艺：有X行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗；也有X行溶剂清洗，再用乳化剂溶解溶剂，再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。
影响漂洗效果的因素有以下几个：
洗剂的漂清性能，漂洗水的纯度、温度以及流动性等。一般在常温下，电导率为0.1μs/cm2的X纯水可以保证漂洗的要求。
经过漂洗后的光学镜片表面的洁净度应和漂洗水洁净
光学镜片清洗用X纯水设备系统常用的处理工艺为反渗透＋混合离子交换法，或更为X的反渗透+EDI（电去离子法）使产品水水质能达到0.1μs/cm２,相比之下，后者成本相对高些。
反渗透+混床高纯水系统的产水电阻率达到1-15兆姆25℃,采用双极混床可达电阻率达到15-18兆欧姆25℃，应用X域十分广泛。
反渗透+混床高纯水系统是利用反渗透系统除去水中95-97%以上的离子杂质,再用后X混床精处理,除去水中剩余离子,产水水质电阻率一般达到1-15兆欧姆25℃反渗透与混床的完美结合,有着设备投资省,运行成本低,管理维护方便等特点.反渗透ROReverse Osmosis反渗透技术是利用压力差为动力的膜分离过滤技术,源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究,后逐渐转化为民用,目前已广泛运用于科研医药食品饮料海水淡化等X域。
（RO）反渗透膜孔径小至纳米X，在一定的压力下,H2O分子可以通过RO膜,而源水中的无机盐重金属离子有机物胶体细菌病毒等杂质无法通过RO膜,从而使可以透过的纯水和无法透过的浓缩水严格区分开来.
混床是混合离子交换柱的简称,是针对离子交换技术所设计的设备.所谓混床,就是把一定比例的阳阴离子交换树脂混合装填于同一交换装置中,对流体中的离子进行交换脱除.由于阳树脂的比重比阴树脂大,所以在混床内阴树脂在上阳树脂在下.一般阳阴树脂装填的比例为1：2,也有装填比例为1：1.5的,可按不同树脂酌情考虑选择.混床也分为体内同步再生式混床和体外再生式混床.同步再生式混床在运行及整个再生过程均在混床内进行,再生时树脂不移出设备以外,且阳阴树脂同时再生,因此所需附属设备少,操作简便,具有以下X点：
(1)出水水质X良,出水pH值接近中性.
(2)出水水质稳定,短时间运行条件变化如进水水质或组分、运行流速等对混床出水水质影响不大.
(3)间断运行对出水水质的影响小,恢复到停运前水质所需的时间比较短.
科瑞水处理研制的系列反渗透加混床X纯水设备（装置）充份考虑工作环境、使用等多方面因素采用X反渗透设计软件进行设计制造，关键设备采用进口产品，工艺X，质量可靠，可扩展性强，结构合理占地小，水利用率高，能耗低，操作维护简单。
二、光学镜片X纯水设备系统工艺流程
反渗透+EDI制取镜片清洗用X纯水
采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取高纯水的X新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的高纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→软水器-精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→电去离子（EDI）→纯水箱
这种方法用来制取X纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取X纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。
