
生产半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用X纯水系统。水质可达X高可达18.3兆欧,符合电子行业生产所需X纯水水质要求。我公司曾为国外很多X电子工业厂家制作工业X纯水设备。
工艺 :
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
2、预处理-一X反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-X二X反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μm精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μm精密过滤器-用水对象
4、 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μm精密过滤器-用水对象
为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各X的污染,在工艺设计上,取达X自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统等。
X纯水器制备X纯水的原理和步骤大体如下:
1.原水:可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。
2.机械过滤:通过砂芯滤板和纤维柱滤除机械杂质,如铁锈和其他悬浮物等。
3.活性炭过滤:活性炭是广谱吸附剂,可吸附气体成分,如水中的余氯等;吸附细菌和某些过渡金属等。氯气能损害反渗透膜,因此应力求除尽。
4.反渗透膜过滤:可滤除95%以上的电解质和大分子化合物,包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除,使离子交换柱的使用寿命大大延长。
5.紫外线消解:借助于短波(180nm-254nm)紫外线照射分解水中的不易被活性炭吸附的小有机化合物,如甲醇等,使其转变成CO2和水,以降低TOC的指标。
6.离子交换单元:已知混合离子交换床是除去水中离子的决定性手段。借助于多X混床获得X纯水也并不困难。但水的TOC指标主要来自树脂床。因此,高质量的离子交换树脂就成为成败的关键。所谓高质量的树脂,就是化学稳定性特别好,不分解,不含低聚物、单体和添加剂等的树脂。
7.0.2μm滤膜过滤,以除去水中的颗粒物到每毫升1个(小于0.2μm的).经过上述各步骤处理后生产出来的水就是X纯水了。应能满足各种仪器分析,高纯分析,衡量。